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Este projeto teve como objetivo a caracterização de filmes de TiN segundo sua textura cristalográfica utilizando o método de difração de raios X.  Especificamente, foi verificada a influência exercida pelo tratamento prévio da superfície dos substratos sobre a orientação cristalográfica preferencial dos filmes aí depositados. Propriedades físicas tais como a resistência mecânica e condutividade elétrica de materiais policristalinos são fortemente sensíveis à presença de orientação preferencial de seus grãos, daí a importância desse tipo de caracterização de materiais.

Utilizando um difratômetro de 4 círculos equipado com um detector de área, foram caracterizados filmes de TiN depositados sobre 3 tipos de substratos: aço com superfície bombardeada com íons de Xe, aço com superfície nitretada por bombardeamento com íons de N e silício monocristalino (100). As medidas feitas nos filmes depositados sobre os substratos de aço não apresentaram evidências significativas de mudança na textura devido aos tratamentos com Xe e N. Por outro lado, filmes de TiN depositados sobre Si monocristalino apresentaram diferenças na texturização relativamente aos substratos de aço. Assim, enquanto no primeiro substrato observou-se orientação preferencial dos planos {100} do TiN paralelamente à superfície do substrato, nestes últimos os planos orientados foram os da família {111}. Em ambos os casos, foi observada textura do tipo folha.

Novas medidas com uma fonte de radiação de Cr se mostraram necessárias, já que a fluorescência do Fe dos substratos de aço, quando irradiado com a radiação do Cu, gera um forte ruído de fundo, impedindo uma análise mais precisa.